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光刻机是目前半导体芯片制造过程中的关键核心设备之一，也是提升半导体芯片性能的关键因素。不过纵观整个全球的半导体市场，目前也只有AMSL工艺可以制造和生产，但是光刻机的技术限制也颇多。 而目前俄罗斯表示，他们正在计划开发全新的光刻机，他们将使用X射线技术，该技术最大的优势和特点就是不需要光掩模就...查看全文>>
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俄罗斯将研发X射线光刻机 有望实现成本大幅降低
光刻机是目前半导体芯片制造过程中的关键核心设备之一，也是提升半导体芯片性能的关键因素。不过纵观整个全球的半导体市场，目前也只有AMSL工艺可以制造和生产，但是光刻机的技术限制也颇多。 而目前俄罗斯表示，他们正在计划开发全新的光刻机，他们将使用X射线技术，该技术最大的优势和特点就是不需要光掩模就...查看全文>>
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